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光學厚度測量儀是一種基于光學原理，利用光的反射、折射、干涉等特性，對物體厚度進行高精度測量的設備。隨著科技的不斷發(fā)展，光學厚度測量技術在材料科學、電子制造、涂層檢測等領域發(fā)揮著越來越重要的作用。本文將介紹它的工作原理、應用領域以及其優(yōu)勢。一...
光刻機，是一個全新的、已經(jīng)被生產(chǎn)廠家驗證過的新型光刻曝光機以及晶圓對晶圓(W2W)接合曝光和測試系統(tǒng)，可滿足用戶對更高光刻精度的需求。業(yè)內(nèi)向更小結構和更密集封裝生產(chǎn)轉型的趨勢帶來了眾多的新挑戰(zhàn)，如對更高精度的要求，因為這將嚴重影響設備的偏差律，并最終影響生產(chǎn)效率和增加成本。它應用的系統(tǒng)可提高對準精度，范圍從1μm-0.1μm，從而為生產(chǎn)廠家在先進微電子、化和物半導體、硅基電功率、三維集成電路和納米等幾乎所有相關產(chǎn)業(yè)提供了解決方案。它的技術原理：光刻機就是把芯片制作所需要的線路...
面向MEMS，納米技術和半導體市場的晶圓鍵合和光刻設備的LINGXIAN供應商EVGroup（EVG）近日推出了IQAlignerNT，它是針對大批量先進封裝應用的新的，先進的自動掩模對準系統(tǒng)。新型IQAlignerNT具有高強度和高均勻度的曝光光學器件，新的晶圓處理硬件，可實現(xiàn)全局多點對準的200mm和300mm晶圓WANQUAN覆蓋范圍以及優(yōu)化的工具軟件，從而使生產(chǎn)率提高了2倍與EVG上一代IQAligner相比，對準精度提高了2倍。該系統(tǒng)超越了晶圓凸塊和其他后端光刻應用...
奧地利EVGroup（EVG）宣布，為形成手機用相機模塊高耐熱鏡頭，芬蘭HeptagonOy采用了EVG的光刻機(MaskAligner)“IQAligner”。EVG高級副總裁HermannWaltl表示，Heptagon采用的是支持300mm晶圓的裝置。該裝置已提供給Heptagon的制造子公司——新加坡HeptagonMicro-OpticsPte。Heptagon是于1993年成立的風險企業(yè),目的是將芬蘭赫爾辛基大學與瑞士約恩蘇大學的微型光學元件的研究成果投入實用。該...
在微電子、納米、半導體領域為晶片接合和光刻技術提供設備技術方案的供應商EVG近期推出了NT系列光刻機和對準測試機，這是一個全新的、已經(jīng)被生產(chǎn)廠家驗證過的新型光刻曝光機以及晶圓對晶圓(W2W)接合曝光和測試系統(tǒng)，可滿足用戶對更高光刻精度的需求。業(yè)內(nèi)向更小結構和更密集封裝生產(chǎn)轉型的趨勢帶來了眾多的新挑戰(zhàn)，如對更高精度的要求，因為這將嚴重影響設備的偏差律，并最終影響生產(chǎn)效率和增加成本。新的EVGNT系列光刻機對準機可極大提高對準精度-范圍從1微米至0.1微米-從而為生產(chǎn)廠家在先進微...
一、簡介第四次工業(yè)革命以數(shù)年前尚不存在的技術席卷了我們的生活，其中一些在幾十年前甚至無法想象。自動駕駛汽車已經(jīng)在公共街道上進行測試；無人機正在調查地形，拍攝視頻，派發(fā)包裹；由專業(yè)人士和業(yè)余愛好者創(chuàng)建的大量視頻內(nèi)容正在被拍攝和發(fā)布；固定和移動監(jiān)視變得司空見慣；服務器的體量變得驚人的龐大，4G網(wǎng)絡正在被5G補充或替代。所有這些趨勢的共同之處在于，它們生成的大量數(shù)據(jù)必須比以往任何時候更快、更可靠地進行處理、傳輸和存儲。上述這些新應用中，許多將需要高級邏輯器件來實現(xiàn)更高的功耗和處理速...